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論文

Fragmentation of methyl formate following carbon 1s electron excitation

関口 広美*; 斉藤 則夫*; 鈴木 功*; 関口 哲弘

Atomic Collision Research in Japan, (23), p.80 - 81, 1997/00

凝集ギ酸メチル(DCOOCH$$_{3}$$)からの光刺激イオン脱離反応においていくつかの共鳴励起によりフラグメントイオン収量が増加することが観測されている。本研究はそれが表面反応に特有なものであるかどうかを確かめる目的で気相DCOOCH$$_{3}$$分子の光分解実験を行った。実験は電総研TERAS放射光施設おける軟X線ビームラインの飛行時間質量分析装置を用いて行った。表面反応ではC$$_{1s}$$(C-D)$$rightarrow$$$$sigma$$$$^{ast}$$(C-D)の励起でD$$^{+}$$収量が大きく増加したが、気相反応ではそれほど増加しなく、一方でC$$_{1s}$$(CH$$_{3}$$)$$rightarrow$$$$pi$$$$^{ast}$$(CH$$_{3}$$)励起でD$$^{+}$$収量は減少した。気相では単分子反応が起こり中性化が起こらないため量子収率の変化は分子の分解による収量減少という形で表れる。それに対して、表面反応では中性化反応が起こるため量子収率の変化は表面分子の励起状態での反発性を反映して収量増加という形で表われる。上記の結果は光刺激イオン脱離法が表面敏感な分析手法であることを示している。

論文

Comparison between electron yield, PSD ion yield, and surface pipico yield in near C and O K-edge XAFS in condensed methyl formate-D

関口 哲弘; 関口 広美*; 小尾 欣一*; 田中 健一郎*

J. Phys., IV, 7, p.505 - 506, 1997/00

ギ酸メチル吸着系の炭素(C)および酸素(O)K殻励起により起こる光刺激イオン脱離反応をパルス放射光を利用した飛行時間質量分析(TOF)法により調べた。CおよびO 1s内殻電子励起によりH$$^{+}$$,D$$^{+}$$,CH$$_{n+}$$,O$$^{+}$$,OCH$$_{n+}$$(n=0~3)などの脱離イオン種がTOFスペクトル上で帰属された。また、これらのイオン収量の励起波長依存性を定量的に測定した結果、いくつかの共鳴内殻励起で励起状態における電子構造を顕著に反映して脱離収量が増加することがわかった。脱離機構を更に調べるため、脱離イオン同士での光イオン-光イオン-コインシデンス(PIPICO)実験を試みた。その結果(H$$^{+}$$-CH$$_{n+}$$),n=0~2コインシデンス・ピークが観測され、またCH$$_{n+}$$イオン収量の励起スペクトルと一致した。このことから、脱離イオン収量の共鳴励起増強効果のモデルとして表面上での多価イオン生成が関与していることが示された。

論文

Inner-shell excitation and state-specific ion-desorption from condensed methyl formate

関口 哲弘; 関口 広美*

Atomic Collision Research in Japan, 0(22), p.89 - 90, 1996/00

ギ酸メチル分子のいくつかの内殻励起状態における波動関数が各官能基や結合に局在しているという研究背景を元に、高エネルギー分解能の軟X線分光器により内殻励起状態を選択励起することにより「結合を選択した光化学反応」の可能性を検討した。実験手法としてはパルス放射光を用い、同位体置換ギ酸メチルの吸着系から脱離するイオン種を飛行時間質量分析法により観測した。各イオン収量の励起スペクトルは吸収スペクトルとかなり異なり、イオン脱離確率が初期内殻励起にかなり依存していることが見出された。特にD$$^{+}$$とCH$$_{n+}$$イオン脱離確率が大きく増加した励起はC 1s(CH$$_{3}$$)$$rightarrow$$$$sigma$$$$^{ast}$$(O-CH$$_{3}$$)とC 1s(C=O)$$rightarrow$$$$sigma$$$$^{ast}$$(C-D)といった反結合性軌道への電子遷移による結果であると解釈された。この結果は励起エネルギーを変化させることにより分子内の反応部位(サイト)を任意に選択することができる可能性があることを示したものである。

論文

Inner-shell excitation and state specific ion desorption of solid deuterated methyl formate as studied by NEXAFS, PSD-TOF, and surface PIPICO spectroscopies

関口 哲弘; 関口 広美*; 小尾 欣一*; 田中 健一郎*

Photon Factory Activity Report 1995, Part B, P. 18, 1995/00

エステル分子をモデル分子として軟X線と凝集有機分子との相互作用を調べた。まず分子内のどの結合が切断されたかがわかるよう、ギ酸メチル分子の同位体置換体を用い、パルス放射光励起により凝集層から脱離するイオン種をTOF法で検出した。その結果、いくつかの共鳴内殻励起で励起状態を顕著に反映して脱離収量が変化することがわかった。更に、脱離機構を詳細に調べるため、脱離イオン・脱離イオン・コインシデンス(PIPICO)スペクトルとその励起エネルギー依存性の測定を行った。その結果、イオン収量の共鳴増大が観測される励起エネルギーとPIPICO収量がピークを示す励起エネルギーとが一致することがわかった。このことから、イオン収量の共鳴増大のメカニズムとして表面層での多価イオン生成過程が含まれると結論された。

論文

Photoinduced organic transformation, selective synthesis of ethylene glycol or formic acid and methyl formate from methanol in the presence of hydrogen peroxide

清水 雄一; 杉本 俊一; 河西 俊一; 鈴木 伸武

Bulletin of the Chemical Society of Japan, 63(1), p.97 - 101, 1990/01

 被引用回数:3 パーセンタイル:31.83(Chemistry, Multidisciplinary)

窒素飽和下で過酸化水素の存在下においてメタノールを紫外光照射すると、エチレングリコールが選択的に生成し、その選択率は過酸化水素の添加速度が3mlh$$^{-1}$$以下では85~94%であった。エチレングリコールの生成量は5mlh$$^{-1}$$で最大になり、その時の量子収率は0.73であった。エチレングリコールは過酸化水素の光分解で生成したヒドロキシルラジカルのメタノールからの水素引抜きによって生成したヒドロキシメチルラジカルの二量化によって生成すると考えられる。一方、酸素通気下でメタノール溶液を紫外光照射すると、ギ酸およびギ酸メチルが選択的に生成し、[ギ酸+ギ酸メチル]の生成の選択率は1~8mlh$$^{-1}$$で約99%であった。ギ酸およびギ酸メチルの生成量は5mlh$$^{-1}$$で最大になり、その時の量子収率はそれぞれ1.36および0.69であった。また、ギ酸およびギ酸メチルの生成機構を考察した。

論文

Photoinduced direct synthesis of formic acid and methyl formate from methanol in the presence of hydrogen peroxide

清水 雄一; 杉本 俊一; 河西 俊一; 鈴木 伸武

Chemistry Letters, 1989, p.1539 - 1540, 1989/00

内部光源型光反応容器を用いて、メタノール-過酸化水素混合溶液に酸素通気下、25$$^{circ}$$Cで低圧水銀灯からの紫外光(主に253.7nm)を照射した。生成物のガスクロマトグラフおよびイオンクロマトグラフによる分析から、主な生成物はギ酸およびギ酸メチルであり、そのほかにエチレングリコール、アセトアルデヒド、水素、二酸化炭素、一酸化炭素およびメタンなどが少量生成することがわかった。生成物のなかでギ酸の収量が最も大きく、ついでギ酸メチル、エチレングリコールの順であった。ギ酸およびギ酸メチルの収量は過酸化水素水の添加速度によって大きく影響されることがわかった。[ギ酸+ギ酸メチル]生成の選択率は99%にも達することを見出した。

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